高純度化学研究所が川越市に半導体材料の新工場を設立し、30億円を投資。2025年に稼働し、生産量を最大3倍に引き上げる計画。安定供給と研究開発拠点を目指す。
要約すると高純度化学研究所が埼玉県川越市に半導体向け材料の新工場を設立することが発表されました。
総投資額は約30億円で、工場は今月完成し、2025年の上期に本格稼働する予定です。
この新工場の稼働により、同社は将来的に生産量を最大3倍に引き上げる計画を立てています。
新工場は鉄骨2階建てで、延べ床面積は約3754平方メートル。
主に半導体用の材料を量産するために設計されています。
新たに製造機械を導入し、生産ラインを拡充するほか、分析装置やクリーンルームも設置される予定です。
これにより、原料の受け入れから製造、品質保証、発送までの一貫した生産体制が整います。
高純度化学研究所は薄膜材料のスパッタリングターゲットや高純度金属、無機材料などを研究開発し、製造・販売を行っています。
特に半導体向け材料の需要は今後も堅調な伸びが見込まれており、同社は新工場を建設することで生産エリアを倍増させ、供給能力を向上させる狙いです。
新工場は同社にとって三つ目の生産拠点となり、宝地戸社長は「最先端半導体デバイス向けの材料の安定供給および、次世代半導体デバイスに向けた材料の研究開発拠点としていきたい」と期待を寄せています。
参考リンクhttps://news.yahoo.co.jp/articles/9689cec2f9f2b1746214b2c62b38c153de13855b