三菱ケミカルグループが半導体精密洗浄能力を強化するため、福島県に新拠点を設立し、岩手県の工場を増強。投資額は30億円で、2026年に稼働予定。
要約すると三菱ケミカルグループは、半導体製造装置やデバイスの精密洗浄能力を強化するため、福島県に新たな拠点を設立し、岩手県の既存工場を増強することを発表しました。
このプロジェクトには計30億円の投資が見込まれており、洗浄能力は現在の岩手工場の2倍に向上する予定です。
両拠点は2026年10月に稼働を開始する計画で、半導体市場の成長に伴う精密洗浄の需要拡大に応えるため、顧客の近くで効率的なサービスを提供する体制を整えます。
三菱ケミカルグループの傘下企業である新菱（北九州市八幡西区）がこの事業を担当し、半導体製造装置のパーツ洗浄能力を拡充します。
新たに設立される福島工場（福島県郡山市）は、三菱ケミカルの郡山製造所の遊休地を利用し、建屋の改築や新しい洗浄設備を導入します。
また、岩手工場（岩手県一関市）では建物の一部を増築し、新たな洗浄関連設備も導入される予定です。
三菱ケミカルグループの精密洗浄技術は、塵やホコリ、金属不純物などナノメートル単位の微細な汚れを効果的に除去することができ、必要に応じてパーツの表面改質も行います。
これにより、半導体製造の歩留まり向上や廃棄パーツの削減、さらには環境負荷の低減にも寄与することが期待されています。
参考リンクhttps://news.yahoo.co.jp/articles/1adc1cb422c80e56e80caf9455e2657debe7c22d