Rapidusが北海道千歳市に最先端のEUV露光装置を導入、日本初の半導体量産設備を整備。2025年には新たなファウンドリサービスを開始予定。
要約するとRapidusは、2023年10月18日に北海道千歳市で建設中の半導体開発・生産施設「IIM-1」に、ASML製のEUV露光装置を搬入し、設置を開始したことを発表しました。
このEUV露光装置の導入は、日本国内での最先端半導体量産向け製造設備としては初めての試みとなります。
半導体技術は急速に進化しており、2nm以下のプロセス技術では従来のArF液浸露光技術から、より短波長のEUVリソグラフィ技術への移行が求められています。
EUVリソグラフィは、微細化を進める上で不可欠な技術であり、今後の半導体産業において重要な役割を果たすと考えられています。
導入されるASML製EUV露光装置は、反射型のフォトマスクとミラーレンズを用いた光学系を採用しており、TWINSCANプラットフォームにより位置合わせとスキャンを別々のステージで行うことで、生産性を向上させることが可能です。
Rapidusは2025年4月にIIM-1でパイロットラインの稼働を開始予定であり、すべての製造装置で枚葉プロセスを導入する計画です。
また、新たな半導体ファウンドリサービス「RUMS」（Rapid and Unified Manufacturing Service）の構築を進め、業界のニーズに応える体制を整えていく方針を示しています。
参考リンクhttps://news.yahoo.co.jp/articles/12bc83e159ce20992dadbe307be3a3ef99379bf1